性能指标：
（1）极限真空度：≤6.67×10-5 Pa（经烘烤除气后）
（2）系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7 Pa•l/S
（3）系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.6×10-4 Pa
（4）停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa
（5）系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成

适用领域：
用于微电子领域中纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备，可供学生实验及教师科研使用。
出料与排空残液全部采用可控自动阀门，出料可计量。